반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 삼성전자와 협력업체 전직 직원이 1심에서 중형을 선고받았습니다.

서울중앙지법 형사합의25부(지귀연 부장판사)는 오늘(19일) 산업기술보호법 위반 등 혐의로 구속기소 된 전직 삼성전자 부장 김 모 씨에게 징역 7년과 벌금 2억 원, 협력업체 A 사 직원 방 모 씨에게 징역 2년 6개월을 선고했습니다.

재판부는 "건전한 경쟁을 심각하게 저해하고 이를 만든 피해 회사의 막대한 시간과 비용을 헛되게 할 뿐 아니라 실제로 대한민국 국가산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대 범죄"라며 "피해 회사의 손해가 가볍지 않고, 특히 삼성전자의 피해는 어마어마한 액수에 이를 것으로 예상할 수 있다"고 밝혔습니다.

김 씨는 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 기업인 창신메모리테크놀로지(CXMT)가 제품 개발에 사용하게 한 혐의 등을 받습니다.

앞서 국가정보원은 이들의 기술 유출 정황을 포착해 2023년 5월 검찰에 수사를 의뢰했습니다.

검찰은 김 씨가 2016년 신생 업체인 CXMT로 이직하면서 반도체 '증착' 관련 자료와 7개 핵심 공정 관련 기술 자료를 유출하고 수백억 원대 금품을 수수한 것으로 의심합니다.

또 최소 세후 5억 원이 넘는 금액을 제시하며 삼성전자와 관계사의 기술 인력 20여 명을 빼간 것으로 파악했습니다.

방 씨는 김 씨와 공모해 반도체 장비를 납품하는 A 사의 설계 기술자료를 CXMT에 넘긴 혐의를 받습니다.

(사진=연합뉴스)